臺式原子層沉積鍍膜系統 參考價：面議
該臺式原子層沉積鍍膜系統擁有達到或超過市場上其他品牌的功能，同時易于使用和維護 - 成本低于當今市場上的價格腔室溫度：室溫到325°C±1&...
磁控濺射鍍膜機 參考價：面議
磁控濺射鍍膜機具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸，手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm...
脈沖激光外延制備鍍膜系統 參考價：面議
脈沖激光外延制備鍍膜系統脈沖激光外延制備系統憑借著優異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇...
脈沖激光沉積鍍膜設備 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜設備激光在真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲...
狹縫擠出式涂布鍍膜機 參考價：面議
狹縫擠出式涂布鍍膜機粘度范圍：1-20000cps，應用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張，幅寬：90mm, 120mm, 300mm。
微型磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
微型磁控濺射鍍膜設備這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。
超高真空磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
超高真空磁控濺射鍍膜系統美國專業的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發沉積，脈沖激光沉積等領域有著20年制造經驗。
電子束蒸發鍍膜系統 參考價：面議
E-Beam電子束蒸發鍍膜系統304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸，分子泵或冷凝泵；手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓...
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備 參考價：面議
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要。系統部件...
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統 參考價：面議
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統該系統由專業的沉積設備商制造,配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統 參考價：面議
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統通常選用射頻淋浴源（RF）或帶有不規則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產生等粒子體。部分PECVD可以升級到PECVD...
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統一個基本的原子層沉積循環包括四個步驟：脈沖A，清洗A，脈沖B和清洗B。沉積循環不斷重復直至獲得所需的薄膜厚度，是制作納米結構從而形...
脈沖激光分子束外延鍍膜系統 參考價：面議
脈沖激光分子束外延鍍膜系統憑借著優異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。
脈沖激光沉積鍍膜系統 參考價：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有...
反應離子刻蝕設備 參考價：面議
反應離子刻蝕設備為達到此目的，必須對真空度，氣體流量，離子加速電壓等進行佳調整，同時，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。我司提供多型號...
原子層沉積鍍膜系統 參考價：面議
原子層沉積鍍膜系統1.ALD （傳統的熱原子層沉積）；2.PEALD （等離子增強原子層沉積）；3.Powder ALD （粉末樣品的原子層沉積）；
臺式磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式磁控濺射鍍膜儀該系統可以作為以下功能裝置：1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異2，具備所有研發級別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時間快4， 實驗室中培訓的...
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD） 參考價：面議
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統（MOCVD）其反應器的設計可以根據工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產的需要。我們也能為客戶設計以滿足客戶特殊工藝和應用的需要...
超高真空多功能薄膜制備系統 參考價：面議
超高真空多功能薄膜制備系統此系統可以配置多種沉積方式（預留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵，或冷凝...
有機分子束沉積鍍膜系統 參考價：面議
有機分子束沉積鍍膜系統電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Et...
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
在線量產型磁控濺射鍍膜系統 高轉換效率大容量吸收，電池可靠性長達10年抗輻射
離子束刻蝕設備 參考價：面議
離子束刻蝕設備離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性 反應刻蝕 生物醫藥傳感器
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備 參考價：面議
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備該系統中的PECVD可以沉積高質量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜等。標準配置射頻（...
反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比） 參考價：面議
反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除
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